前不久云南大學傳來好消息,這可能將改變我國甚至世界芯片的制造和研發。關于芯片新材料硫化鉑突破瓶頸,有望解決芯片新材料在合成過程中所出現的問題。


要知道現在芯片成了所有高新技術所必備的核心。而隨著大家對芯片的重視程度越來愈高,國家芯片方面的成就也成了衡量一個國家科研能力的重要標志。

云南大學找到了芯片“新材料” 有望徹底改變世界芯片的制造和研發

從一開始的28nm到現在的5nm,甚至前不久臺積電表示3nm芯片已經在研制了。雖然目前的芯片技術還沒達到國際水平,還因為芯片“卡住了脖子”,但我國在芯片的創新研發依舊穩步向前。


但當所有人都在追求更高端的芯片時,卻忽略了芯片材料,這能不能支撐人們沒有止境的研究和創新呢?


當今世界使用的芯片都是最基礎的硅基芯片,這種芯片是嚴格順應摩爾定律芯片材料,所以具備局限性。所以盡管臺積電還是三星都已經熟練制造了5nm芯片,或者是3nm芯片的生產也快了。但如果想要研制1nm以下的芯片,那“萬能”的摩爾定律將在硅基芯片上失效,這也是硅基芯片的極限。


當然1nm絕對不可能成為人們研究芯片的底線,所以想要解決這個問題就必須找到可以替代硅的芯片材料。


雖然之前臺積電已經研究出以金屬鉍為主要材料的芯片,但是金屬鉍也存在各種問題,所以這并不是最好的選擇。


那云南大學研究的硫化鉑,為什么能備受青睞呢?這還要從硫化鉑的優勢開始說起。

云南大學找到了芯片“新材料” 有望徹底改變世界芯片的制造和研發

硫化鉑屬于石墨烯中的一類,曾經石墨烯也是研究人員中的預備材料之一。作為新興材料的石墨烯所具備的零帶隙,對光的吸收率低等特點,但生產芯片卻很難,特別是生產石墨烯晶圓,要消耗的時間更多。但同為石墨烯一類的硫化鉑,卻很好地避開了同類問題,還同時吸收了石墨烯的優點。


此前科研人員之所以會將目光放在石墨烯的身上,就看中了它范德華力結合的層狀結構。而硫化鉑卻在同時擁有相似的范德華力結合的層狀結構的基礎上,擁有優越的光,磁等相關性能。并且硫化鉑也解決了石墨烯自身零帶隙的問題,擁有比較寬且可供調節的帶隙。


擁有這些特點的硫化鉑在一定程度上解決了現如今芯片群面臨的問題。所以無論是從哪一方面看硫化鉑都是優于石墨烯,更不要說金屬鉍了。


除此之外硫化鉑還具有更為穩定的特性,比石墨烯來更具有透光性,雜質也很少。這對后續生產芯片來說會更方便穩定,而具有這些特點的硫化鉑無疑是制作新芯片的最佳材料。


除此以外,硫化鉑的使用可以繼續延續摩爾定律,而且硫化鉑的發現是現如今最適合制作芯片的材料,和臺積電所研發的金屬鉍相比擁有了無限的可能性和優點。而這一次的發現也領先于臺積電,恐怕臺積電自己也沒想到。


現如今關于研究成果,云南大學已經發表在世界上的知名科學刊物上。世界各國都對此重點關注,這對世界范圍的芯片生產來說是重要的突破。畢竟現在的芯片研究已經到達了一定高度,對于高端芯片的研發和更新換代也呈現出日新月異的局勢。各個芯片廠商對芯片擁有超高的研制工藝,但芯片材料問題也成了所有廠商重中之重的問題。


所以一切關于芯片新材料對消息都是牽一發而動全身的存在。而云南大學的這次突破無疑是對世界芯片市場的一次重大變革,而中國的芯片行業再一次登上世界舞臺。


當硫化鉑正式可以進入到芯片的生產線中,那最先發現就硫化鉑的我國必然會比其他人領先一個階段,對硫化鉑的使用也更為熟練。


要知道現在國際上對我國芯片方面的壓制非??鋸?,我國現在也正面臨嚴重的“缺芯”問題。而對于完全國產的芯片研究正處于瓶頸的狀態,這樣嚴峻的趨勢下云南大學硫化鉑,無疑在另一個方向打通中國對芯片研究的道路。


但無論是芯片的自研還是生產,光刻機的制造都是中國現在芯片所面臨的巨大困難。


文章來源: 愛觀察的豬

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